适用于扁平清新logo设计

模型简介：适用于扁平logo设计，可用于生成品牌logo、设计元素等

出图建议：

底膜：可用官方XL基础模型，其他模型请自行尝试；

模型权重：0.6-0.8

采样：采样器和采样步数不限

创意概述：解决做设计的朋友对素材的需求，提供风格创意的参考。