与之前版本相比的新特性

  • 更快,更高效: 新版本引入了SDXL 的 lightning 版本减少了内存使用,同时保留大部分细节。这个 lightning 版本的 SDXL 通过仅需要 10 个采样步骤更加高效且快速,不会牺牲质量。
  • 移除背景更精确: 新工作流使用了 BiRefNetRMBG-2.0 模型,移除背景更加准确和高效,尤其对于细节如头发和复杂边缘的处理。此外,你还可以调节“process_detail”设置,精细调节复杂主体的去背景效果。
  • 更真实的背景生成: 基于Flux的整合提升了背景生成效果。
  • 更强的遮罩控制: 可以自定义遮罩来精确调整重绘区域。

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